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2021-03-03 第06版:六版
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新型加速器光源助光刻机研发 |
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【本报北京讯】清华大学工程物理系教授唐传祥研究组与德国的研究团队日前报告了一种名为“稳态微聚束”(SSMB)的新型粒子加速器光源的原理验证实验。据悉,这项重要研究有望为光子科学研究提供新的机遇,并助力EUV(极紫外)光刻机的自主研发。 据了解,在实验中,研究团队利用波长1064纳米的激光操控环形加速器内的电子束,使电子束绕加速器一整圈(周长48米)后形成精细的微结构,即“微聚束”。研究人员发现,微聚束会在激光波长及其高次谐波上辐射出高强度的窄带宽相干光,通过探测该辐射可验证微聚束的形成,由此证明了电子的光学相位能以短于激光波长的精度逐圈关联起来,使得微聚束可被“稳态”地保持,从而验证了SSMB的工作机理。 “SSMB光源的潜在应用之一是作为未来EUV光刻机的光源。”唐传祥表示。光刻是集成电路芯片制造中复杂和关键的工艺步骤,光刻机是芯片产业链中必不可少的精密设备。目前业界公认的新一代主流光刻技术是采用波长为13.5纳米光源的EUV光刻。而大功率的EUV光源是EUV光刻机的核心基础。(魏梦佳)
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